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发明专利
2018111867189
一种硅基纳米多孔硅单凸透镜的制备方法
发明专利
电气自动化
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已下证
本发明公开了一种硅基纳米多孔硅单凸透镜的制备方法,该方法是将常规双槽腐蚀时使用两个圆形平板薄铂片作为电极,且在两个平行电极之间放置硅片,硅片轴线、两个圆形平板薄铂片轴线三者重合,硅片离左、右两个电极的距离相等,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;采用恒流源对硅片进行电化学腐蚀形成圆柱形多孔硅薄膜;然后将硅基圆柱形的多孔硅膜浸入氢氧化钠溶液中,并以圆柱形的多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴旋转圆柱形多孔硅,导致在多孔硅圆柱表面形成由多孔硅材料构成的单面凸透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅单面凸透镜,能广泛应用于微机电系统,为微机光电系统领域作出了重大的贡献。
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